La plaque épitaxiale est fabriquée en monocristaux au silicium de 100 et 150 mm de diamètre. La plaque épitaxiale est destinée à l’utilisation dans l’industrie de semi-conducteurs. L’épitaxie est un procédé lors duquel l’on applique sur le substrat du silicium monocristallin une autre couche de silicium monocristallin.
Afficher sur la carte
Présentation de la société: ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.